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Die Mittelfrequenz-Magnetronentladung im Druckbereich von 10 bis 100 Pa

  • Die notwendigen konstruktiven Maßnahmen an den Sputterquellen, sowie die auftretenden Effekte beim Mittelfrequenz-Magnetronsputtern werden beschrieben und diskutiert. Als Modellsystem wurde Kupfer untersucht. Die Arbeit beinhaltet eine vergleichendes Zusammenstellung der Herstellungstechnologien. <!-- #h:dissdiplHochdrucksputtern.doc# -->

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Metadaten
Author:Ralf Blüthner
Advisor:Ullrich Reinhold, Kirchhoff
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2000/09/11
Year of first Publication:1995
Date of final exam:1995/08/01
Tag:HTSL; Hochdrucksputtern; YBCO
GND Keyword:Sputtern
Page Number:68 Seiten, 31 Abb., 0 Tab., 24 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2000/09/11