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Untersuchungen zur Entfernung organischer Materialien durch Ozon

  • In dieser Arbeit wird das Verfahren der UV/Ozonreinigung dargestellt und seine Mechanismen erläutert. Es ist eine einfache und rationelle Trockenreinigungsmethode zur Entfernung organischer Materialien, die auch in Vakuumanlagen eingesetzt werden kann. In den durchgeführten Versuchen dienten befettete 4'-Wafer als Proben. Die Auswertung erfolgte anhand der Entfärbung des Fettfilmes auf dem Wafer. Es zeigte sich, daß mit zunehmenden Druck und mit wachsender Nähe zum UV-Strahler der Reinigungseffekt zunimmt. Die Effizienz diese Verfahrens wird mit einer UV- und UV/Sauerstoff-Reinigung verglichen und der Aufbau einer Reinigungsanlage beschrieben. <!-- #h:dissdiplOzonreinigung.doc# -->

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Metadaten
Author:Gert Zychowitz
Advisor:Ullrich Reinhold
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2000/09/11
Year of first Publication:1994
Date of final exam:1994/07/30
GND Keyword:Ultraviolettstrahler
Page Number:34 Seiten, 28 Abb., 1 Tab., 9 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2000/09/11