Modifikation von nanostrukturierten Silizium-Oberflächendurch nasschemisches Ätzen
modification of nanopatterned Si-surfaces by wet chemical etching
- Parameterstudie zum Ätzverhalten von nanostrukturierten Silizium-Oberflächen. Beinhaltet Prameter wie Temperatur, Zeit und Zusätze.
- Parameter study for etching behavior of nanopatterned silicon-surfaces. Used are temperature, time and additional substances.
| Author: | Marcus Kretschmer |
|---|---|
| Advisor: | Hans-Dieter Schnabel |
| Document Type: | Bachelor Thesis |
| Language: | German |
| Name: | Helmholtzzentrum Dresden-Rossendorf Bautzner Landstraße 400, 01328 Dresden |
| Date of Publication (online): | 2018/02/22 |
| Year of first Publication: | 2013 |
| Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
| Date of final exam: | 2013/10/07 |
| Tag: | nanostrukturiert; nasschemisch Si; etching; nanopatterned; silicon; surface |
| GND Keyword: | Silicium; Ätzen; Oberfläche |
| Page Number: | 37 Seiten, 4 Abb., 24 Tab., 7 Lit. |
| Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
| Release Date: | 2018/02/22 |
