Defektreduzierte Al2O3-Abscheidung mit reaktiven Puls-Magnetron-Sputtern für die Oberflächenpassivierung von kristallinem Silizium
Defect reduced Al2O3-Deposition with reactive Puls-Magnetron-Sputtering for the surface passivation of crystalline silicon
- Aluminiumoxid hat das Potential herkömmliche Oberflächenpassivierungen als besserer Passivator von Silizium basierten Solarzellen abzulösen. Seit 2004 werden Al2O3-Dünnschichten als Passivierung für kristallines Silizium erforscht. Optimierte Sputterprozesse anderer Forschungsgruppen erreichen eine Oberflächenrekombinations-geschwindigkeit von SORG = 2
- Aluminum oxide has the potential to supersede conventional surface passivation as a better passivator of silicon based solar cells. Since 2004 Al2O3 thin layers are investigated as passivation for crystalline silicon. Optimized sputter processes reach a surface recombination velocity of SORG = 2
| Author: | David Tröger |
|---|---|
| Advisor: | Andreas NeidhardtGND, Dietmar Temmler |
| Document Type: | Master's Thesis |
| Language: | German |
| Name: | Fraunhofer Institut für Elektronen- und Plasmatechnik Winterbergstraße 28, 01277 Dresden |
| Date of Publication (online): | 2018/02/22 |
| Year of first Publication: | 2016 |
| Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
| Date of final exam: | 2016/09/19 |
| Tag: | Aluminiumoxid; Puls-Sputtern; defekreduziert aluminum oxide; puls-sputtern; solar cell; surface passivation |
| GND Keyword: | Oberflächenpassivierung; Solarzelle |
| Page Number: | 86 Seiten, 35 Abb., 9 Tab., 89 Lit. |
| Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
| Release Date: | 2018/02/22 |
