Open Access

Ronny Eschner

• Inhalt dieser Arbeit ist die Untersuchung, ob eine Plasmaquelle hinreichend modifiziert werden kann, um epitaktisch abgeschiedene Siliziumcarbidschichten mit Stickstoff zu dotieren. Schwerpunkt der Arbeit war die Konzeption, Installation und die Optimierung des Gasversorgungssystems, die Inbetriebnahme der Plasmaquelle und die spektroskopische Untersuchung der Plasmazusammensetzung. Die spektroskopische Untersuchung des Plasmas zielte darauf ab, die Konzentration an atomaren Stickstoff im Entladungsraum durch kombinierte Variation von eingekoppelter RF-Leistung und Gasfluss zu optimieren. In den Emissionsspektren wurden die auftretenden Emissionslinien charakterisiert und den Linien der entsprechenden Stickstoffteilchen zugeordnet. Bei der Realisierung der Gasversorgung stand die Bestimmung der Leitwerte im Vordergrung. Es konnte gezeigt werden, dass sich die verschiedenen Druckstufen durch die einzelnen Bauelemente beeinflussen lassen. Dies ist von Bedeutung für die Realisierung einer notwendigen hohen Druckdifferenz zwischen Plasmaraum und Wachstumskammer.