STATISTISCHE PROZESSKONTROLLE AN EINER BELICHTUNGSANLAGE ZUR HALBLEITERFERTIGUNG

STATISTICAL PROCESS CONTROL ON EXPOSURE TOOLS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING

  • Die Diplomarbeit gibt einen Überblick über den Fachbereich Photolithographie und dessen Einordnung im Gesamtprozess der halbleiterbasierten Schaltkreisherstellung. Im Anschluss werden die beiden Messverfahren Substratausrichtung in der Belichtungsmaschine und Lageversatzmessung im Lageversatzmessgerät erläutert. Durch statistische Datenanalyse werden die Lageversatzmesswerte und Maschinenparameter zur Auswertung gebracht. Es wird versucht, eine Korrelation zwischen beiden Messverfahren durchzuführen und diese mathematisch zu beschreiben.

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Metadaten
Author:Steven Tottewitz
Advisor:Christel Reinhold, Wolfgang Henke
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Name:Qimonda Technologies Dresden GmbH und Co. OHG
Königsbrücker Straße 180, 01099 Dresden
Date of Publication (online):2009/11/19
Year of first Publication:2009
Date of final exam:2009/10/30
Tag:APC; Ausrichtungsmessung; FDC; Lageversatzmessung
GND Keyword:Reliabilität; Statistischer Test; Statistik; Stichprobe; Streuungsdiagramm; Regressionsanalyse; Ausreißer <Statistik>; Lithogr
Page Number:86 Seiten, 55 Abb., 4 Tab., 20 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2009/11/19