STATISTISCHE PROZESSKONTROLLE AN EINER BELICHTUNGSANLAGE ZUR HALBLEITERFERTIGUNG
STATISTICAL PROCESS CONTROL ON EXPOSURE TOOLS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
- Die Diplomarbeit gibt einen Überblick über den Fachbereich Photolithographie und dessen Einordnung im Gesamtprozess der halbleiterbasierten Schaltkreisherstellung. Im Anschluss werden die beiden Messverfahren Substratausrichtung in der Belichtungsmaschine und Lageversatzmessung im Lageversatzmessgerät erläutert. Durch statistische Datenanalyse werden die Lageversatzmesswerte und Maschinenparameter zur Auswertung gebracht. Es wird versucht, eine Korrelation zwischen beiden Messverfahren durchzuführen und diese mathematisch zu beschreiben.
Author: | Steven Tottewitz |
---|---|
Advisor: | Christel Reinhold, Wolfgang Henke |
Document Type: | Diploma Thesis |
Language: | German |
Name: | Qimonda Technologies Dresden GmbH und Co. OHG Königsbrücker Straße 180, 01099 Dresden |
Date of Publication (online): | 2009/11/19 |
Year of first Publication: | 2009 |
Date of final exam: | 2009/10/30 |
Tag: | APC; Ausrichtungsmessung; FDC; Lageversatzmessung |
GND Keyword: | Reliabilität; Statistischer Test; Statistik; Stichprobe; Streuungsdiagramm; Regressionsanalyse; Ausreißer <Statistik>; Lithogr |
Page Number: | 86 Seiten, 55 Abb., 4 Tab., 20 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2009/11/19 |