Herstellung von dünnen HfO2-Schichten mittel Reaktiven Niederspannungs-Hochstrom-Ionenplattieren (RLVIP) und deren Charakterisierung

  • Beschichtungen spielen in der Technik und im Alltag eine große Rolle. Die Schichten werden mit verschiedenen Verfahren hergestellt. Die Prozessparameter der jeweiligen Beschichtungsverfahren wirken sich stark auf die Schichteigenschaften aus, die eine große Bedeutung für die jeweilige Anwendungen haben. Im Rahmen dieser Diplomarbeit wurden Hafniumdioxid-Schichten mit dem Reaktiven Niederspannungs-Hochstrom Ionenplattieren (RLVIP-Prozess) hergestellt und deren Eigenschaft ermittelt. Beim RLVIP-Prozess wurden Prozessparameter Bogenstrom und Sauerstoffpartialdruck geändert und deren Einfluss auf den Brechungsindex und Absorptionskoeffizienten ermittelt. Mit dem Spektralphotometer wurde die Transmission der Schichten vermessen. Daraus wurden der Brechungsindex und die Absorptionskante ermittelt. Für die Messung der Absorption wurde die Photothermale Deflektionsspektroskopie eingesetzt und der Absorptionskoeffizienten berechnet. Zur Untersuchung der Schichtstruktur wurde eine Probe mit Ramanmikroskopie und Röntgendiffraktometrie vermessen. Weiterhin wurde mit der Photoelektronenspektroskopie die chemische Zusammensetzung von vier verschiedenen Proben untersucht, um den Einfluss des Bogenstroms und des Sauerstoffpartialdruckes zu bestimmen.

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Metadaten
Author:Andrea Kunz
Advisor:Ullrich Reinhold, Hans K. PulkerGND
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Name:Universität Innsbruck
Christoph-Probst-Platz Innrain 52, 6020 Innsbruck
Date of Publication (online):2010/09/06
Year of first Publication:2006
Date of final exam:2006/02/28
Tag:Hafniumoxid; Ionenplattieren; chemische Eigenschaften; optische Eigenschaften
Page Number:47 Seiten, 37 Abb., 8 Tab., 38 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2010/09/06