Anwendbarkeit lithographischer Prozessmethoden in der Strukturierung durch Laserablation.

Applicability of lithographic processing methods in the structuring by laser ablation.

  • Die Inspiration zu der vorliegenden Diplomarbeit basiert auf einem klassischen lithografischen Belichtungsprozess, bei dem die Substratstrukturierung, mit einer UV-Lichtquelle, mittels einer Masken-Projektionsbelichtung stattfindet. Eine innovative OTFT (organic thin film transistor) Technologie zur Herstellung von flexiblen Displays nutzt das Masken-Projektionsbelichtung-Prinzip zur Strukturierung dünnen anorganischen und organischen Schichten durch Ablation. Mit den lithografischen Prozessmethoden durch Anwendung von unterschiedlichen Teststrukturen werden einige optische Eigenschaften des Belichtungssystems, wie: Fokuslage, Fokustiefe, Auflösungsgrenze und Astigmatismus, beschrieben. Es wurden zwei grundsätzlich verschiedene Materialien untersucht: ein halbleitender Polymer und Gold. Für die vorhandenen Schichtsysteme konnte gezeigt werden, auf welche Weise die Geometrie der Strukturen (Breite, Dichte, Größe, Form) sich auf ihre Abbildung auswirkt.

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Metadaten
Author:Wojciech Strzelecki
Advisor:Mathias Heilig
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Name:Plastic Logic GmbH
Plastic Logic GmbH, An der Bartlake 5, 01109 Dresden, 01109 Dresden
Date of Publication (online):2010/09/06
Year of first Publication:2010
Date of final exam:2010/03/31
Tag:Laserablation; Laserlithographie
Page Number:58 Seiten, 59 Abb., 4 Tab., 22 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2010/09/06