Anwendbarkeit lithographischer Prozessmethoden in der Strukturierung durch Laserablation.
Applicability of lithographic processing methods in the structuring by laser ablation.
- Die Inspiration zu der vorliegenden Diplomarbeit basiert auf einem klassischen lithografischen Belichtungsprozess, bei dem die Substratstrukturierung, mit einer UV-Lichtquelle, mittels einer Masken-Projektionsbelichtung stattfindet. Eine innovative OTFT (organic thin film transistor) Technologie zur Herstellung von flexiblen Displays nutzt das Masken-Projektionsbelichtung-Prinzip zur Strukturierung dünnen anorganischen und organischen Schichten durch Ablation. Mit den lithografischen Prozessmethoden durch Anwendung von unterschiedlichen Teststrukturen werden einige optische Eigenschaften des Belichtungssystems, wie: Fokuslage, Fokustiefe, Auflösungsgrenze und Astigmatismus, beschrieben. Es wurden zwei grundsätzlich verschiedene Materialien untersucht: ein halbleitender Polymer und Gold. Für die vorhandenen Schichtsysteme konnte gezeigt werden, auf welche Weise die Geometrie der Strukturen (Breite, Dichte, Größe, Form) sich auf ihre Abbildung auswirkt.
Author: | Wojciech Strzelecki |
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Advisor: | Mathias Heilig |
Document Type: | Diploma Thesis |
Language: | German |
Name: | Plastic Logic GmbH Plastic Logic GmbH, An der Bartlake 5, 01109 Dresden, 01109 Dresden |
Date of Publication (online): | 2010/09/06 |
Year of first Publication: | 2010 |
Date of final exam: | 2010/03/31 |
Tag: | Laserablation; Laserlithographie |
Page Number: | 58 Seiten, 59 Abb., 4 Tab., 22 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2010/09/06 |