Konzepterarbeitung fuer einen Run-to-Run Controller fuer Oxid-CMP-Prozesse

Concept Development of a Run-to-Run Controller for Oxide CMP Processes

  • In dieser Arbeit geht es um die Untersuchung des Oxid-CMP-Prozesses für einen Run-to-Run Controller in einem industriellen Produktionsumfeld. Dabei liegt der Fokus auf der Vorhersage der Abtragsrate auf strukturierten Wafern. Diese wird durch eine Reihe produkt- und anlagenspezifischer Parameter beeinflusst, welche für die Prozessierung von bekannten als auch neuen Produkten von großer Bedeutung sind. Im Rahmen dieser Untersuchungen werden die entscheidenden Parameter sowie deren Wechselwirkungen für eine Run-to-Run gesteuerte Bearbeitung an CMP-Anlagen untersucht um eine automatisierte Waferbearbeitung ohne vorherige Abtragsratenbestimmung mittels Pilotwafer zu gewährleisten. Somit kann sowohl die Prozesszeit als auch der Materialverbrauch für die Bearbeitung eines Produktes deutlich gesenkt werden.
  • This work deals with the examination of the oxide CMP process for a run-to-run controller in an industrial production environment. Here the focus is the prediction of the removal rate on structured wafer. This is influenced by a variety of product- and system-specific parameters, which are of considerable significance to the manufacturing of known as well as new products. The purpose of this investigation is to evaluate the key parameters and their interaction regarding a run-to-run controlled processing on CMP systems in order to guarantee an automated wafer production without previous determination of removal rate using a pilot wafer. In this way the manufacturing of a product will allow a considerable reduction in both process time and material consumption.

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Metadaten
Author:Christopher Naß
Advisor:Daniel SchondelmaierGND, Ulrike Jahn
Document Type:Master's Thesis
Language:German
Name:X-Fab Dresden GmbH & Co. KG
Grenzstraße 28, 01109 Dresden
Date of Publication (online):2017/02/13
Year of first Publication:2014
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Date of final exam:2014/10/24
Tag:CMP; Chipfertigung; Halbleiter; Run-to-Run; polieren
CMP; Oxide; Polish; Run-to-Run; Semiconductor
Page Number:74 Seiten, 68 Abb., 11 Tab., 30 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2017/02/13