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Alexander Kabardiadi-Virkovski

• Für die Halbleiterindustrie einer der wichtigsten Realisierungsschritte ist die Photolithographie. Die Hauptwerkzeuge der Photolithographie sind die Belichtungsanlagen. Die moderne Projektionsmethoden setzen eine Niveau der Belichtungsqualität voraus. Die Qualität der Belichtung repräsentiert die Qualität der abbildenden Optik des System. Die Charakterisierung der Belichtungsmaschinen erfolgt mittels der Untersuchung der Wellenfront im Belichtungsbereich. Die konventionelle Methoden der Wellenfrontuntersuchung sind mit hohen wirtschaftlichen Investitionen verbunden. \smallskip Im Rahmen der vorliegenden Arbeit wurde ein Messsystem für eine schnelle Wellenfrontuntersuchung realisiert. Die untersuchte und realisierte Messtechnik nutzt die Eigenschaften des Belichtungssystems, um eine hoch-präzise Frontabrasterung zu realisieren. Die Untersuchungen des aufgebauten Messsystem zeigen, dass der \Gls{PSD}-basierte Aufbau, in einem breiten Intensitäts- und Wellenlängenrahmen, die notwendige Auflösung liefern kann.
• The work presented here describes the analysis of problems of the realization of alternative wavefront measurement methods for lithography exposure machines. The measurement method that is introduced is a redesign of a conventional Shack-Hartmann wavefront sensor and was based on the usage of a single pinhole and the lithography machine itself. Such a redesign is useful because it increases the degrees of freedom. Therefore, there is more freedom to analyze the problems of designing and planning measurements. A group of hardware prototypes under laboratory conditions with the required angular and lateral resolution were realized. For the approximation of the measurement results, numerical simulations are implemented using the Monte-Carlo method in order to statistically design the experiments themselves.