Charakterisierung einer Boosteranode imarcPECVD- Prozess für Plasmabeschichtungdünner Kunststofffolien

Characterization of a booster anode in thearcPECVD process for plasma coatingthin plastic films

  • Diese Arbeit befasst sich mit der Beschichtung dünner Kunststofffolien mithilfe der .arcPECVD-Beschichtung. Die Beschichtung erfolgt in der Anlage labFlex 200 des Fraunhofer Institutes FEP. Für diesen Prozess soll eine Methode für die Temperaturerfassung an der aus Graphit bestehenden Boosteranode erarbeitet und bewertet werden. Ein wichtiger Bestandteil dieser Arbeit bildet die Untersuchung in wie fern eine Variierung von Parameter Einfluss auf den Prozessablauf nimmt. Hierfür wurde ein Versuchsplan aufgestellt, der unterschiedliche Parametereinstellungen kombiniert. Somit kann der Einfluss verschiedenster Parameter mit auf den Prozess untersucht werden. Ebenso wird der Einfluss der Parameter auf die Beschichtungsrate hin untersucht. Dies soll ermöglichen, eine gezielte Aussage über das Beschichtungsverhalten geben zu können. Weiterer Kernpunkt dieser Arbeit ist Variation der Geometire der Graphitboosteranode. Die Variation erfolgt über Veränderungen in der Höhe und Veränderungen in der Breite der Anode. Diese geometrischen Variationen werden in Bezug auf die Versuchsparameter hin analysiert um eine Aussage darüber treffen zu können, ob und wie die Veränderung der Anodenhöhe/breite einen Einfluss auf die Prozessparameter und auf die Beschichtungsrate hat.

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Metadaten
Author:Sebastian Sörgel
Advisor:Stefan BraunGND, Michiel Top
Document Type:Master's Thesis
Language:German
Name:Westsäsische Hochschule Zwickau
Fraunhofer Institut FEP, 08060 Zwickau
Date of Publication (online):2018/12/13
Year of first Publication:2018
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Tag:Beschichtungsrate; Boosteranode; Geometrievariation; Glühzone; arcPECVD
Page Number:58 Seiten, 22 Abb., 46 Tab., 18 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2019/03/19