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Year of publication
- 2009 (1)
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- Diploma Thesis (1)
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Im Rahmen dieser Diplomarbeit sollen PZT-Schichten durch Gasflusssputtern auf 6-Zoll- Siliziumwafern hergestellt werden. Ferner soll die Schichtzusammen-setzung als Funktion der Prozessparameter untersucht werden. Zu den wichtigsten Parametern zählen dabei die Quellenleistung, Sauerstofffluss und Argonfluss. Mithilfe der Optischen Emissionsspektroskopie (OES) sollen während der Beschichtung Spektren aufgenommen werden, um diese dann später mit der Schichteigenschaften korrelieren zu können. Die chemische Komposition wird mit Hilfe der Elektronenstrahlmikroanalyse (EPMA) analysiert und in ein ternäres Stöchiometrie-Diagramm eingetragen. Das Ziel ist es, durch die Variation der Prozessparameter die optimale Zusammensetzung der Schicht einstellen zu können. Des Weiteren soll mit dem in-situ-Verfahren Optische Emissionsspektroskopie (OES) der Grundstein für eine aktive Prozesskontrolle und Regelung gelegt werden.