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Year of publication
- 2009 (1)
Document Type
- Diploma Thesis (1)
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Diese Diplomarbeit befasst sich mit der Einführung von zwei Charakterisierungsverfahren für Belichtungsanlagen in der Lithographie: dem Source Metrology Instrument (SMI) zur Charakterisierung der Beleuchtungsquelle und dem In-situ Interferometer (ISI) zur Charakterisierung der Linsenaberationen des Projektionslinsensystems. Dabei wird detailliert auf die Funktionsweise beider Verfahren eingegangen. Die durch beide Verfahren ermittelten Parameter werden erklärt: Sigma für SMI und die Zernike-Koeffizienten für ISI. Ebenso werden ihre Auswirkungen auf den Produktionsprozess erklärt, wie z.B. die Auswirkung von Linsenaberrationen auf die Abbildung von Strukturen im Lack. Der Zusammenhang der ermittelten Parameter zu bekannten Effekten in der Lithographie wird hergestellt, wie die Abhängigkeit des Iso-Dense-Bias-Effektes von Sigma. Dabei wird auch auf angewendeten Verfahren eingegangen, wie der annularen oder der Quadrupolbeleuchtung. Die Durchführung und Auswertung eines SMI-Versuchs wird an einem Beispiel beschrieben. Des Weiteren wird die Abhängigkeit der SMI-Ergebnisse vom verwendeten Lack untersucht. Für das ISI-Verfahren wird die Kurzzeitwiederholbarkeit nachgeprüft und Messergebnisse des ISI-Verfahrens werden mit denen eines anderen Verfahrens verglichen. Zum Schluss wird ein Ausblick gegeben auf die Anwendung der mit beiden Verfahren ermittelten Parameter.