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Diplomarbeit
(2010)
In der vorliegenden Diplomarbeit wird der Einfluss von Partikeln auf der Glasrückseite von Masken bei einer Belichtungswellenlänge von 193 nm untersucht. Es soll ermittelt werden, ab welcher Partikelgröße die auf dem Wafer abgebildeten Lackstrukturen durch Linienbreitenschwankungen beeinflusst werden, und welche Partikelgrößen nicht abbildungswirksam, d.h. tolerierbar sind.