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Mit Hilfe des reaktiven Sputterprozess wird elektrochromes Material abgeschieden. Dieser Prozess wird über eine PEPVD realisiert. Das dabei genutzte Plasma wird während der Beschichtung mittels optischer Atomemissionsspektroskopie analysiert. Die dabei entstandenen elektrochromen Schichten werden elektrochemisch vermessen. Die Zusammensetzung des Plasmas wird mit den Eigenschaften der Schichten zusammengeführt.