TY  - THES
A1  - Schürer, Tobias
T1  - Prozessoptimierung des reaktiven Sputterprozesses der elektrochromen Hauptelektrode mittels Plasmamonitoring.
T1  - Process optimization of the reactive sputtering process of the electrochromic main electrode by means of plasma monitoring.
N2  - Mit Hilfe des reaktiven Sputterprozess wird elektrochromes Material abgeschieden. Dieser Prozess wird über eine PEPVD realisiert. Das dabei genutzte Plasma wird während der Beschichtung mittels optischer Atomemissionsspektroskopie analysiert. Die dabei entstandenen elektrochromen Schichten werden elektrochemisch vermessen. Die Zusammensetzung des Plasmas wird mit den Eigenschaften der Schichten zusammengeführt.
KW  - Elektrochromie
KW  - Elektrochemie
KW  - Plasmaspektroskopie
KW  - Reaktives Sputtern
Y1  - 2018
UR  - https://libdoc.fh-zwickau.de/opus4/frontdoor/index/index/docId/10284
ER  -