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Interaktion von Reparatur- und Reinigungsprozessen bei der Herstellung von Fotomasken

Interaction between repair and clean processes in photomask manufacturing

  • Die Reparatur und Reinigung von Fotomasken sind zwei entscheidende Arbeitsgebiete auf dem Weg zu einer defektfreien Maske. In der vorliegenden Arbeit wurden diese beiden Prozesse umfangreich charakterisiert und ihre Interaktion untersucht. Desweiteren konnten aus den gewonnen Erkenntnissen Ansätze zur Verbesserung abgeleitet werden.

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Metadaten
Author:Elisabeth Bodenstein
Advisor:Hans-Dieter Schnabel
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Name:Advanced Mask Technology Center Dresden
Rähnitzer Allee 9, 01109 Dresden
Date of Publication (online):2018/02/22
Year of first Publication:2011
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Date of final exam:2011/03/04
Tag:Maskenherstellung; Reinigung; Reparatur
Clean; Repair; photomask manufacturing
GND Keyword:Photolithographie; Maske <Halbleitertechnologie>
Page Number:53 Seiten, 35 Abb., 3 Tab., 27 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2018/02/22