Interaktion von Reparatur- und Reinigungsprozessen bei der Herstellung von Fotomasken
Interaction between repair and clean processes in photomask manufacturing
- Die Reparatur und Reinigung von Fotomasken sind zwei entscheidende Arbeitsgebiete auf dem Weg zu einer defektfreien Maske. In der vorliegenden Arbeit wurden diese beiden Prozesse umfangreich charakterisiert und ihre Interaktion untersucht. Desweiteren konnten aus den gewonnen Erkenntnissen Ansätze zur Verbesserung abgeleitet werden.
Author: | Elisabeth Bodenstein |
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Advisor: | Hans-Dieter Schnabel |
Document Type: | Bachelor Thesis |
Language: | German |
Name: | Advanced Mask Technology Center Dresden Rähnitzer Allee 9, 01109 Dresden |
Date of Publication (online): | 2018/02/22 |
Year of first Publication: | 2011 |
Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
Date of final exam: | 2011/03/04 |
Tag: | Maskenherstellung; Reinigung; Reparatur Clean; Repair; photomask manufacturing |
GND Keyword: | Photolithographie; Maske <Halbleitertechnologie> |
Page Number: | 53 Seiten, 35 Abb., 3 Tab., 27 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2018/02/22 |