"Abscheidung und Untersuchung von Barriereschichten mittels ausgewählter PECVD - Prozesse"
- In der vorliegenden Arbeit wird speziell die Abscheidung von Siliziumoxid- und Siliziumnitridschichten an einer neu entwickelten Forschungsanlage der Roth & Rau AG untersucht. Das Hauptaugenmerk liegt dabei auf Abscheidung von defektfreien und intrinsisch dichten PECVD - Barriereschichten (PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Die neuartige Versuchsanlage bietet hierfür erstmalig die Untersuchungsmöglichkeit zur Schichtabscheidung mit drei unterschiedlichen Plasmaquellenkonzepten, die bereits in industriellen Beschichtungsanlagen erfolgreich eingesetzt werden und somit eine schnelle technische Umsetzung, sowie die Skalierbarkeit zur großflächigen Beschichtung gewährleisten.
| Author: | Andreas Seifert |
|---|---|
| Advisor: | Andreas NeidhardtGND |
| Document Type: | Diploma Thesis |
| Language: | German |
| Name: | Roth & Rau AG Gewerbering 3, 09337 Hohenstein - Ernstthal |
| Date of Publication (online): | 2008/05/27 |
| Year of first Publication: | 2008 |
| Date of final exam: | 2008/02/29 |
| Tag: | PECVD - Verfahren; Barriereschichten |
| Page Number: | 90 Seiten, 56 Abb., 9 Tab., 39 Lit. |
| Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
| Release Date: | 2008/05/27 |
