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Charakterisierung von Wolfram - ALD - Schichten

characterization of tungsten - ALD - layer

  • In der heutigen Zeit wird es immer wichtiger, die Schichtparameter von abgeschiedenen Schichten zu erfassen, ohne dabei die funktionellen Schichten zu beschädigen und somit die Ausbeute zu verringern. Dafür wird immer häufiger auf Analyseverfahren zurückgegriffen, die auf Röntgenstrahlung basieren. Diese haben die Vorteile, dass es eine breite Auswahl an gut beherrschten Verfahren gibt. In dieser Arbeit wird die Auswirkung der Variation von ALD - Prozessparametern auf die entstehenden Wolfram - ALD - Schichten untersucht. Diese Schichten sollen später Röntgenoptiken verwendet werden. Dies wird über innseitig beschichtete Glaskapillare erfolgen. Um eine möglichst hohe Reflektivität zu erzielen, werden die Schichten mit Hilfe der Röntgenreflektometrie untersucht. Für eine bessere Interpretation werden zudem noch weitere Charakterisierungsverfahren hinzugezogen. Es gelang einige Tendenzen zwischen den ALD - Prozessparametern und den entstandenen Schichten festzustellen. Des Weiteren wurden noch Experimente zur Oberflächenbehandlung und verschiedene Schichtaufbauten durchgeführt welche gute Ergebnisse erzielten.
  • In today's world it is increasingly important to measure the quality of deposited layers without damaging those functional layers and consequently reducing the yield. It is increasingly resorted to methods of analysis based on x-rays. These have the advantage that there is a wide selection of well-controlled processes. In this work, the effect of a variation of ALD - process parameters on the resulting tungsten layers is examined. These layers are later used as x-ray optics. This will be done via inside coated glass capillary. To achieve a high reflectivity, the layers are investigated using x-ray reflectometry. For a better interpretation are also other characterization techniques involved. Some trends have been discovered between the ALD - process parameters and the resulting layers. Further experiments were performed for surface treatment and various layer structures in which good results were achieved.

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Metadaten
Author:Sebastian Rauer
Advisor:Christel Reinhold, Andreas NeidhardtGND
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Name:Westsächsische Hochschule Zwickau
Dr.-Friedrichs-Ring 2A, 08056 Zwickau
Date of Publication (online):2012/09/13
Year of first Publication:2012
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Date of final exam:2012/09/07
Release Date:2012/09/13
GND Keyword:Atomlagenabscheidung; Charakterisierung; Wolfram
Page Number:41 Seiten, 31 Abb., 5 Tab., 15 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik