Prozeßentwicklung und Schichtcharakterisierung zur Abscheidung dickerer kubischer Bornitridschichtungen

  • Die vorliegende Arbeit befasst sich mit dem HF-Diodensputtern von Borkarbid zur Abscheidung von kubischem Bornitrid. Im Mittelpunkt der Arbeit steht die Prozessentwicklung zur Herstellung haftender, verschleißfester c-BN-Schichtung auf WC. Darüber hinaus finden sich Ergebnisse zur Abscheidung von Borkarbid auf Werkzeugsubstraten (WC) sowie Angaben zu den Schichteigenschaften.

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Metadaten
Author:Bärbel Röhrchen
Advisor:Andreas NeidhardtGND
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2003/07/09
Year of first Publication:2000
Date of final exam:2000/01/01
Tag:Haftsystem; kubisches Bornitrid
GND Keyword:Dünnschichttechnik
Page Number:57 Seiten, 27 Abb., 8 Tab., 45 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2003/07/09