Prozeßentwicklung und Schichtcharakterisierung zur Abscheidung dickerer kubischer Bornitridschichtungen
- Die vorliegende Arbeit befasst sich mit dem HF-Diodensputtern von Borkarbid zur Abscheidung von kubischem Bornitrid. Im Mittelpunkt der Arbeit steht die Prozessentwicklung zur Herstellung haftender, verschleißfester c-BN-Schichtung auf WC. Darüber hinaus finden sich Ergebnisse zur Abscheidung von Borkarbid auf Werkzeugsubstraten (WC) sowie Angaben zu den Schichteigenschaften.
Author: | Bärbel Röhrchen |
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Advisor: | Andreas NeidhardtGND |
Document Type: | Diploma Thesis |
Language: | German |
Date of Publication (online): | 2003/07/09 |
Year of first Publication: | 2000 |
Date of final exam: | 2000/01/01 |
Tag: | Haftsystem; kubisches Bornitrid |
GND Keyword: | Dünnschichttechnik |
Page Number: | 57 Seiten, 27 Abb., 8 Tab., 45 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2003/07/09 |