HERCULES Plasmasensor zum Kammerabgleich an CSE-Kammern der Firma AVIZA
HERCULES Plasmasensor for Chambermatching at CSE-Chambers from AVIZA
- Zur Angleichung der Prozessparameter an CSE-Kammern wurde ein HERCULES-Plasmasensor verwendet. Gefundene Unterschiede der Baugruppen wurden behoben. Die Synchronisation der RF-Einkopplungen von ICP- und BIAS-Leistung wurde als Hauptursache erkannt. Es konnte dadurch eine Erhöhung der Produktionskapazität erreicht werden.
- Use of HERCULES-Plasmasensor for matching the process parameters on CSE-Chambers. Some differences in used hardware was found and fixed. The synchronization of the RF-Coupling of ICP and BIAS-Power was recognized as the main cause. It could thus increase the production capacity will be achieved.
| Author: | Marcus Watzke |
|---|---|
| Advisor: | Ullrich Reinhold, Norbert Urbansky |
| Document Type: | Diploma Thesis |
| Language: | German |
| Name: | Infineon Technologies Dresden GmbH Königsbrücker Straße 180, 01099 Dresden |
| Date of Publication (online): | 2009/11/19 |
| Year of first Publication: | 2009 |
| Date of final exam: | 2009/09/25 |
| Tag: | Chambermatching; HERCULES-Sensor; RF-Setup |
| GND Keyword: | ICP; Matching-Problem; Hochfrequenzentladung; Hochfrequenzplasma; Harmonisierung |
| Page Number: | 72 Seiten, - Abb., - Tab., - Lit. |
| Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
| Release Date: | 2009/11/19 |
