Diplomarbeit

  • In der vorliegenden Diplomarbeit wird der Einfluss von Partikeln auf der Glasrückseite von Masken bei einer Belichtungswellenlänge von 193 nm untersucht. Es soll ermittelt werden, ab welcher Partikelgröße die auf dem Wafer abgebildeten Lackstrukturen durch Linienbreitenschwankungen beeinflusst werden, und welche Partikelgrößen nicht abbildungswirksam, d.h. tolerierbar sind.

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Metadaten
Author:Silvio Fritsche
Title Additional (German):Printstudie zum Abbildungsverhalten von Partikeln auf unstrukturierten Maskenoberflächen
Advisor:Jürgen Grimm, Carmen Jähnert
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Name:Infineon Technologies Dresden GmbH
Königsbrücker Straße 180, 01099 Dresden
Date of Publication (online):2010/01/15
Year of first Publication:2010
Date of final exam:2010/01/07
Tag:Abbildungsverhalten von Partikeln
GND Keyword:Partikel
Page Number:80 Seiten, 57 Abb., 10 Tab., 9 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2010/01/15