Diplomarbeit
- In der vorliegenden Diplomarbeit wird der Einfluss von Partikeln auf der Glasrückseite von Masken bei einer Belichtungswellenlänge von 193 nm untersucht. Es soll ermittelt werden, ab welcher Partikelgröße die auf dem Wafer abgebildeten Lackstrukturen durch Linienbreitenschwankungen beeinflusst werden, und welche Partikelgrößen nicht abbildungswirksam, d.h. tolerierbar sind.
Author: | Silvio Fritsche |
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Title Additional (German): | Printstudie zum Abbildungsverhalten von Partikeln auf unstrukturierten Maskenoberflächen |
Advisor: | Jürgen Grimm, Carmen Jähnert |
Document Type: | Diploma Thesis |
Language: | German |
Name: | Infineon Technologies Dresden GmbH Königsbrücker Straße 180, 01099 Dresden |
Date of Publication (online): | 2010/01/15 |
Year of first Publication: | 2010 |
Date of final exam: | 2010/01/07 |
Tag: | Abbildungsverhalten von Partikeln |
GND Keyword: | Partikel |
Page Number: | 80 Seiten, 57 Abb., 10 Tab., 9 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2010/01/15 |