Nutzung von Makro-Farbdaten zur Erweiterung der Schichtcharakterisierung in der Halbleiterfabrikation
Using of Macro-Colordata during wafer fabrication for enhancement of layer characterization
- Schichtdicken schwanken bei strukturierten DRAM - Scheiben prozessbedingt durch die Halbleiterfabrikation. In der vorliegenden Arbeit wird die Nutzung von Makro - Farbdaten zur Erweiterung der Schichtcharakterisierung untersucht. Dabei kommen verschiedene Stabilitäts- und Zonenuntersuchungen zum Einsatz. Im Ergebnis werden Farbeffekte als Inhomogenitäten auf strukturierten Siliziumscheiben gezeigt und detektiert. Die Ergebnisse bieten Hinweise auf Anwendungen für verschiedene Oberflächenbeschaffenheiten.
- There is a process related range in thickness of films at structured DRAM - wafers in semiconductor manufacturing. In this paper, utilization of Macro - Colordata have been studied in order to identify enlargements of layer characterization. Different investigations of zones and stability were applied. The achievement is to demonstrate and to detect color effects on structured silicon wafers. The test results will give an idea of possible applications for different surface configuration of products.
Author: | Madeleine Wedekind |
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ISBN: | - Available in library? |
Advisor: | Gunter Krautheim, Michael Brossmann |
Document Type: | Diploma Thesis |
Language: | German |
Name: | Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG (in Insolvenz) Königsbrücker Str. 180, 01099 Dresden |
Date of Publication (online): | 2010/09/06 |
Year of first Publication: | 2010 |
Date of final exam: | 2010/01/26 |
Tag: | Farbeffekte; Schichtdickenanalytik; Stabilitätsbetrachtungen; Weißabgleich analysis of film thickness; color effects; stability treatment; white balance |
Page Number: | 85 Seiten, 71 Abb., 3 Tab., 22 Lit. |
Source: | - |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Rektorat |
Release Date: | 2010/09/06 |