Die Plasmagestützte Atomlagenabscheidung von Titannitrid mittels Titantetrachlorid und Ammoniak-Plasma

The plasma-enhanced atomic layer deposition of titanium nitride with titanium tetrachloride and ammonia-palsma

  • Als eines der vielversprechendsten Verfahren zur konformen Abscheidung von Schichten im Nanometerbereich wird in dieser Arbeit die plasmagestützte Atomlagenabscheidung von Titannitrid untersucht. Ziel ist es einen reproduzierbaren Prozess zur Abscheidung von Schichten zur Standzeitverlängerung für Fräser und Bohrer mit sehr kleinem Durchmesser (ca. 0,3mm) einzuführen und zu optimieren. Als Präkursoren wurden Titantetrachlorid und ein Ammoniak-Plasma verwendet. Untersucht wurde der Einfluss verschiedener Prozessparameter auf das Schichtwachstum und die Eigenschaften der erzeugten Schichten

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Metadaten
Author:Toni Junghans
Advisor:Ullrich Reinhold, Hans-Dieter Schnabel
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Name:Westsächsische Hochschule Zwickau, Fakultät Physikalische Technik / Informatik
PSF 201037, 08012 Zwickau
Date of Publication (online):2018/02/22
Year of first Publication:2017
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Date of final exam:2017/02/17
Tag:Ammoniak-Plasma; Atomlagenabscheidung; TiCl4; plasmagestützt
Page Number:36 Seiten, 21 Abb., 6 Tab., 25 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2018/02/22