Die Plasmagestützte Atomlagenabscheidung von Titannitrid mittels Titantetrachlorid und Ammoniak-Plasma
The plasma-enhanced atomic layer deposition of titanium nitride with titanium tetrachloride and ammonia-palsma
- Als eines der vielversprechendsten Verfahren zur konformen Abscheidung von Schichten im Nanometerbereich wird in dieser Arbeit die plasmagestützte Atomlagenabscheidung von Titannitrid untersucht. Ziel ist es einen reproduzierbaren Prozess zur Abscheidung von Schichten zur Standzeitverlängerung für Fräser und Bohrer mit sehr kleinem Durchmesser (ca. 0,3mm) einzuführen und zu optimieren. Als Präkursoren wurden Titantetrachlorid und ein Ammoniak-Plasma verwendet. Untersucht wurde der Einfluss verschiedener Prozessparameter auf das Schichtwachstum und die Eigenschaften der erzeugten Schichten
Author: | Toni Junghans |
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Advisor: | Ullrich Reinhold, Hans-Dieter Schnabel |
Document Type: | Bachelor Thesis |
Language: | German |
Name: | Westsächsische Hochschule Zwickau, Fakultät Physikalische Technik / Informatik PSF 201037, 08012 Zwickau |
Date of Publication (online): | 2018/02/22 |
Year of first Publication: | 2017 |
Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
Date of final exam: | 2017/02/17 |
Tag: | Ammoniak-Plasma; Atomlagenabscheidung; TiCl4; plasmagestützt |
Page Number: | 36 Seiten, 21 Abb., 6 Tab., 25 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2018/02/22 |