Untersuchung der Plasma-Oberflächenaktivierung des Hochfrequenz-Basismaterials RO3003TM in der Leiterplattenfertigung und Optimierung der Prozessparameter

  • Mit der fortschreitenden branchenübergreifenden Miniaturisierung elektronischer Baugruppen, beispielsweise im Bereich der Automobil- oder Kommunikationselektronik, steigen Leistung, Komplexität und Funktionsdichte der Bauteile. Leistungsfähigere Produkte erfordern dabei höhere Signalübertragungsfrequenzen und ein stetig wachsendes Know-how in der Herstellung. Das betrifft insbesondere die Leiterplatte, ein substanzielles Element für nahezu jede elektronische Anwendung. Durch den Einsatz von plasmabasierten Verfahren wird die Grundlage für die Verarbeitung von Hochfrequenz-Basismaterialien wie RO3003TM in der Leiterplattenfertigung geschaffen. Die vorliegende Bachelorarbeit beschäftigt sich mit der Plasmabearbeitung von Platinen, die auf diesem Sondermaterial aufgebaut sind. Die Aufgabenstellung besteht darin, den Plasmaprozess, insbesondere die Aktivierung der Oberfläche, und relevante Parameter zu untersuchen und zu optimieren mit dem Ziel, die Oberflächenenergie und die Benetzbarkeit für nachfolgende Metallisierung anzupassen und zu verbessern. Es werden nach der Vorstellung fachbezogener Grundlagen und eines Versuchsplans Methoden aufgezeigt, um die Qualität der Oberflächenaktivierung zu beurteilen. Ferner werden die durchgeführten Versuche und erzielten Ergebnisse umfangreich ausgewertet und Schlussfolgerungen für die Leiterplattenfertigung der KSG GmbH aus den Resultaten abgeleitet.

Export metadata

Additional Services

Metadaten
Author:Viviane Leuschke
Advisor:Wieland Zahn, Stefanie Schädlich
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Name:KSG GmbH
Auerbacher Straße 3-5, 09390 Gornsdorf
Date of Publication (online):2019/01/14
Year of first Publication:2019
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Tag:Oberflächenaktivierung; Plasma
Page Number:69 Seiten, 32 Abb., 15 Tab., 26 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2019/10/30