Einfluss von Prozessparametern beim Puls-Magnetronsputtern von AlSc-Kacheltargets auf die Schichteigenschaften von AlScN-Dünnschichten

  • Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der Magnetron-Sputter-Deposition von Aluminium-Scandium-Nitrid Dünnschichten unter Verwendung zweier Kacheltargets. Die Beschichtungen wurden am Fraunhofer Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatech-nik, FEP durchgeführt und ausgewertet. Die Zusammenhänge zwischen den Abscheidepara-metern und den Eigenschaften der Schichten werden aufgezeigt. Im Fokus stehen dabei die Parameter Kathodenspannung und Sputterdruck. Hinsichtlich der Eigenschaften werden der piezoelektrische Koeffiizient d33, die Schichtdickenverteilung, die elektrischen Isolationseigen-schaften sowie die mechanischen Schichtspannungen genauer betrachtet. Zusätzlich wird untersucht, welchen Einfluss eine Wasserstoffdotierung auf den Sauerstoff in den Schichten ausübt.

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Metadaten
Author:David Stark
Advisor:Stefan BraunGND, Stephan Barth
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Name:Fraunhofer Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, FEP
Winterbergstraße 28, 01277 Dresden
Date of Publication (online):2019/03/14
Year of first Publication:2019
Publishing Institution:Westsächsische Hochschule Zwickau
Tag:Aluminium-Scandium-Nitrid; Dünnschichten; Kacheltarget; Magnetronsputtern
Page Number:42 Seiten, 30 Abb., 4 Tab., 40 Lit.
Faculty:Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik
Release Date:2019/10/30