Einfluss von Prozessparametern beim Puls-Magnetronsputtern von AlSc-Kacheltargets auf die Schichteigenschaften von AlScN-Dünnschichten
- Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der Magnetron-Sputter-Deposition von Aluminium-Scandium-Nitrid Dünnschichten unter Verwendung zweier Kacheltargets. Die Beschichtungen wurden am Fraunhofer Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatech-nik, FEP durchgeführt und ausgewertet. Die Zusammenhänge zwischen den Abscheidepara-metern und den Eigenschaften der Schichten werden aufgezeigt. Im Fokus stehen dabei die Parameter Kathodenspannung und Sputterdruck. Hinsichtlich der Eigenschaften werden der piezoelektrische Koeffiizient d33, die Schichtdickenverteilung, die elektrischen Isolationseigen-schaften sowie die mechanischen Schichtspannungen genauer betrachtet. Zusätzlich wird untersucht, welchen Einfluss eine Wasserstoffdotierung auf den Sauerstoff in den Schichten ausübt.
Author: | David Stark |
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Advisor: | Stefan BraunGND, Stephan Barth |
Document Type: | Bachelor Thesis |
Language: | German |
Name: | Fraunhofer Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, FEP Winterbergstraße 28, 01277 Dresden |
Date of Publication (online): | 2019/03/14 |
Year of first Publication: | 2019 |
Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
Tag: | Aluminium-Scandium-Nitrid; Dünnschichten; Kacheltarget; Magnetronsputtern |
Page Number: | 42 Seiten, 30 Abb., 4 Tab., 40 Lit. |
Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
Release Date: | 2019/10/30 |