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Year of publication
- 2009 (1)
Document Type
- Diploma Thesis (1)
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Language
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Diese Diplomarbeit befasst sich mit der Charakterisierung und angestrebten Optimierung nitridierter Gateoxid- sowie, Tunneloxidprozesse von RTP-Anlagen unterschiedlicher Hersteller. Die Charakterisierung erfolgte mittels unterschiedlicher Methoden. Zum einen wurden Schichteigenschaften wie Dicke und Homogenität sowie, elektrische Parameter wie spezifischer elektrischer Widerstand, Tunnelfeldstärke, Störstellendichte und Gesamtladungen im Oxid ermittelt. Zum anderen kamen zur Beschreibung des Nitridierungsprofils ein Reoxidationsverfahren, als auch ToFSIMS- und XPS-Analysen zum Einsatz. Im ersten Teil der Diplomarbeit war das Ziel, einen produktiv verwendeten Gateoxidprozess zu charakterisieren. Hierbei handelt es sich um einen Drei-Kammer-Prozess mit einer Niederdruck-Stickstoff-Plasma-Nitridierung. Diese Ergebnisse dienten als Vorgabe zur Anpassung eines zu optimierenden Gateoxidprozesses, welcher in einer Kammer unter Normaldruck und mit einer Amoniak-Nitridierung stattfindet. Durch statistische Versuchsplanung sollten die Prozessparameter ermittelt werden, die zu einem Gateoxid mit den selben Schichteigenschaften wie des originalen Gateoxides führen. Im zweiten Teil soll ein produktiv verwendetes, ca. 7 Minuten langes Tunneloxidrezept optimiert werden. Unter Beachtung des thermischen Budgets soll das Rezept merklich verkürzt werden, ohne dass negative Änderungen der Schichteigenschaften auftreten.