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Year of publication
- 2006 (1)
Document Type
- Diploma Thesis (1)
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Diese Diplomarbeit befasst sich mit der Charakterisierung von gesputterten Barriereschichten auf Tantal- und Tantalnitridbasis. Ziel der Untersuchungen war es, diese Schichten mittels Magnetronsputtern so dünn wie möglich (< 10 nm) abzuscheiden, ohne deren Eigenschaft als Funktionsschicht zu beeinträchtigen. Die Untersuchungen an diesen Schichten wurden mit dem oberflächensensitiven Verfahren der Photoelektronenspektroskopie und der UHV-Rastertunnelmirkoskopie durchgeführt. Es wurden zunächst die theoretischen und experimentellen Grundlagen erschlossen. Dies beinhaltete auch eine Recherche über die in der Forschung bisher erhaltenen Ergebnisse. So wurde zunächst eine optimale Einstellung der Sputterquelle ermittelt und im Anschluss Untersuchungen zur Schichtbedeckung durchgeführt. Zudem wurde für Tantalnitrid die Schichtzusammensetzung in Abhängigkeit des Stickstoffpartialdruckes untersucht. Zwei Tantalnitrid-Tantal-Silizium Schichtsysteme wurden hergestellt und einer Tiefenprofilanalyse unterzogen. Hauptaugenmerk wurde bei den Untersuchungen auf den Interfacebereich dieser Schichtsysteme gelegt. Anschließend wurden an den ausgewählten Tantal- und Tantalnitridschichten rastertunnelmikroskopische Untersuchungen durchgeführt. Diese Messungen gaben, unterstütze durch die Rastertunnelspektroskopie, Auskunft über das Schichtwachstum.