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In der heutigen Zeit wird es immer wichtiger, die Schichtparameter von abgeschiedenen Schichten zu erfassen, ohne dabei die funktionellen Schichten zu beschädigen und somit die Ausbeute zu verringern. Dafür wird immer häufiger auf Analyseverfahren zurückgegriffen, die auf Röntgenstrahlung basieren. Diese haben die Vorteile, dass es eine breite Auswahl an gut beherrschten Verfahren gibt. In dieser Arbeit wird die Auswirkung der Variation von ALD - Prozessparametern auf die entstehenden Wolfram - ALD - Schichten untersucht. Diese Schichten sollen später Röntgenoptiken verwendet werden. Dies wird über innseitig beschichtete Glaskapillare erfolgen. Um eine möglichst hohe Reflektivität zu erzielen, werden die Schichten mit Hilfe der Röntgenreflektometrie untersucht. Für eine bessere Interpretation werden zudem noch weitere Charakterisierungsverfahren hinzugezogen. Es gelang einige Tendenzen zwischen den ALD - Prozessparametern und den entstandenen Schichten festzustellen. Des Weiteren wurden noch Experimente zur Oberflächenbehandlung und verschiedene Schichtaufbauten durchgeführt welche gute Ergebnisse erzielten.