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Im Rahmen dieser Arbeit wurde mit einem Doppelringmagnetron gearbeitet. Das damit durchgeführte Beschichtungsverfahren war der stationäre reaktive Pulssputterprozess zum Abschneiden von Aluminiumoxid (Al2O3). Es wurde der Einfluß des Targetmaterialabtrags auf die Prozessparameter und Schichteigenschaften während des Sputterbetriebs unterucht. Es wurden zwei für den industriellen Einsatz im Langzeitbetrieb geeignete Arbeitsregime erarbeitet, welche das Zielen haben die Beschichtungsbedingungen während der Targetlebensdauer konstant zu halten: 1. Regime: Konstanthaltung der Beschichtungsrate während der Targetlebensdauer 2. Regime: Konstanthaltung der Reaktivität während der Targetlebensdauer Diese beiden Regime wurden mittels eines beweglichen Magnetsystems experimentell erprobt. Es wurden Größen gefunden, welche sich als Maß für die beiden Zielgrößen eignen und deshalb als Kriterien für eine automatische Nachführung verwendet werden können.