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Diese Arbeit befasst sich der Bewertung der Impedanzspektroskopie als Methode für die Schichtdickenmessung an komplexen geometrischen Formen. Dafür wird die Herstellung und Untersuchung von Kondensatoren für Grundlegende Betrachtungen herangezogen. Als Basis wird der Aufbau eines Plattenkondensators genutzt. Hierfür wird über das RF-Sputtern ein Metall/Isolator/Metallsystem auf eine 18x18 große Siliziumprobe abgeschieden. Für die Metallschicht wird Titan verwendet und als Isolator kommt Titanoxid zum Einsatz. Die Mes-sung der einzelnen Schichten erfolgt über das spektrale Ellipsometer und die Röntgenreflek-tometrie. Beide Varianten werden gegeneinander abgeglichen, um zu sehen, welches Mess-verfahren sich besser für die Bestimmung der Schichtdicke eignet. Mit den gemessenen Da-ten des Schichtsystems erfolgt anschließend eine Impedanzmessung. Da die zumessenden Proben in der Form von Plattenkondensatoren sind, ist ein kapazitives Verhalten zu erwarten. In einem doppelt logarithmischen Diagramm, indem die Impedanz über der Messfrequenz aufgetragen ist, sollte es zu einem linearen Anstieg bei größeren Frequenzen kommen. Aus diesem Verhalten wird die Kapazität des Systems heraus berechnet und für die Berechnung der Schichtdicke der dielektrischen Schicht verwendet. Ziel ist es, anhand eines hergestellten Messsystems eine realistische Schichtdicke über die Impedanzspektroskopie berechnen zu können. Der praktische Hintergrund ist die Beschichtung von Bohrern.
Diese Arbeit befasst sich mit der Beschichtung dünner Kunststofffolien mithilfe der .arcPECVD-Beschichtung. Die Beschichtung erfolgt in der Anlage labFlex 200 des Fraunhofer Institutes FEP. Für diesen Prozess soll eine Methode für die Temperaturerfassung an der aus Graphit bestehenden Boosteranode erarbeitet und bewertet werden. Ein wichtiger Bestandteil dieser Arbeit bildet die Untersuchung in wie fern eine Variierung von Parameter Einfluss auf den Prozessablauf nimmt. Hierfür wurde ein Versuchsplan aufgestellt, der unterschiedliche Parametereinstellungen kombiniert. Somit kann der Einfluss verschiedenster Parameter mit auf den Prozess untersucht werden. Ebenso wird der Einfluss der Parameter auf die Beschichtungsrate hin untersucht. Dies soll ermöglichen, eine gezielte Aussage über das Beschichtungsverhalten geben zu können. Weiterer Kernpunkt dieser Arbeit ist Variation der Geometire der Graphitboosteranode. Die Variation erfolgt über Veränderungen in der Höhe und Veränderungen in der Breite der Anode. Diese geometrischen Variationen werden in Bezug auf die Versuchsparameter hin analysiert um eine Aussage darüber treffen zu können, ob und wie die Veränderung der Anodenhöhe/breite einen Einfluss auf die Prozessparameter und auf die Beschichtungsrate hat.
In dieser Arbeit geht es um die Herstellung und Charakterisierung von PDMS- Stempelfamilien. Es wurden mehrere Stempelfamilien mit unterschiedlichen Strukturen hergestellt. Diese Stempelstrukturen wurden auf Ihr Abrissverhalten hin untersucht. Der Abrisstest erfolgte über eine eigens dafür konstruierte Apparatur. Eine charakteristische Oberflächenanalyse erfolgt durch den Einsatz eines Rasterelektronenmikroskops. Die ver-schiedenen Strukturen wurden auf ihre Abrisskraft und ihre Oberflächenbeschaffenheit mit-einander verglichen. Um eine genaue Auswertung zu erhalten, fanden die Vergleiche der Ergebnisse zwischen einem Masterstempel und einem Moldstempel statt. Die Ergebnisse wurden grafisch dargestellt und ausgewertet.