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In dieser Arbeit werden die Einflüsse variierender Anlagenparameter auf die spektrale Intensität von Argonplasmen untersucht. Im Besonderen wurden die Linienintensitäten von Ar-, Ar^+- und Ar^++-Teilchen untersucht. Hierfür wurden die Anlagenparameter Bias-Leistung, Source-Leistung, Kammerdruck und Gasfluss variiert. Es werden Abhängigkeiten verschiedener spektraler Linienintensitäten zu den sich ändernden Parametern diskutiert.