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Die Reparatur und Reinigung von Fotomasken sind zwei entscheidende Arbeitsgebiete auf dem Weg zu einer defektfreien Maske. In der vorliegenden Arbeit wurden diese beiden Prozesse umfangreich charakterisiert und ihre Interaktion untersucht. Desweiteren konnten aus den gewonnen Erkenntnissen Ansätze zur Verbesserung abgeleitet werden.