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Der Einfluss verschiedener Parameter und Vorbehandlungen auf das Ätzergebnis von Silizium in TMAH wurde an zwei unterschiedlich stark p-dotierten Substrattypen (100-orientiert) untersucht. Ziel war eine Optimierung des Nassätzprozesses, um wiederholbar qualitativ hochwertige, optische Gitter herzustellen. Untersucht wurden die Unterätzung der Hartmaske und die Tiefenätzung mittels institutsintern entwickelter Kontrollstrukturen (sogenannte Nonien). Mit Hilfe von REM-Messungen wurden diese Werte in Korrelation zu den tatsächlichen Stegbreiten gebracht. Grundlage für die Auswertung war das nach Seidel et. al. vorgestellte Ätzmodell in KOH. Die Messwerte zeigen eine Veränderung der Ätzcharakteristik über eine Badstandzeit von 48h. Vermutlich ist die Hydroxidionen-Konzentration nicht konstant. Sie wird von der Dissoziation des TMAHs und des Verbrauchs durch den Siliziumabtrag beeinflusst. Wie in der Literatur zu finden, wurde bestätigt, dass zusätzliches im Ätzbad gelöstes Silizium die Anisotropie erhöht. Dieses bindet frei werdende OH