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Bestimmung der Dichte und Gasaufnahme aufgedampfter reiner Siliziumschichten mittels Quarzmikrowaage
(2015)
Der erste Teil der Arbeit beschäftigt sich mit der Untersuchung eines alternativen Verfahrens zur Dichtebestimmung E-Strahl-aufgedampfter amorpher Silizium-Schichten (a-Si) mittels Schwingquarzmessung. Ziel war es einen Kompromiss zwischen hoher Genauigkeit und geringem apparativem Aufwand zu finden. Durch Messung der Si-Schichtdicke mittels Tastschnittgerät und der Massenbelegung aus der korrelierten Frequenzänderung des Schwingquarzes (SQ) nach Sauerbrey wurde die Schichtdichte bestimmt. Hierbei wurde der Einfluss des Quarzes (Oberflächenrauheit, Behandlungshistorie) und der Versuchsbedingungen (Substrattemperatur, Abscheiderate) auf die Dichte der Schichten und deren Genauigkeit untersucht. Im zweiten Teil wurde der Effekt der Gasabsorption auf diese Schichten in Abhängigkeit der Abscheidebedingungen untersucht. Dazu wurden frisch abgeschiedene a-Si-Schichten definierten Atmosphären (Druck, Gasart) ausgesetzt und mittels Schwingquarz in-situ die Massenbelegung aufgenommen.