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In der Halbleiterfertigung werden Run to Run Controler zur automatischen Nachregelung von Prozessdrifts eingesetzt. Zur Formulierung eines Regelgesetzes müssen die voneinander abhängigen Größen bekannt sein. Bei der Charakterisierung des Chemisch-Mechanischen Polierens (CMP) ist die Abtragsrate eine wichtige Kenngröße zur Berechnung einer optimalen Polierzeit. Für unterschiedliche Produkte gibt es unterschiedliche Abtragsraten. Durch den Einfluss von Verbrauchsmaterialien über deren Nutzungszeit ändert sich der Anlagenzustand. In dieser Diplomarbeit wurden Methoden zur Optimierung der Polierzeitberechnung für Oxid