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Die vorliegende Arbeit befasst sich mit dem HF-Diodensputtern von Borkarbid zur Abscheidung von kubischem Bornitrid. Im Mittelpunkt der Arbeit steht die Prozessentwicklung zur Herstellung haftender, verschleißfester c-BN-Schichtung auf WC. Darüber hinaus finden sich Ergebnisse zur Abscheidung von Borkarbid auf Werkzeugsubstraten (WC) sowie Angaben zu den Schichteigenschaften.