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Gegenstand der Arbeit ist es, die Prozessstabilität für die Herstellung von nanoskaligen Strukturen durch Laserinterferenztlithographie zu optimieren und die Möglichkeit des Einbringens dieser Strukturen in eine OLED zu untersuchen. Dabei steht die Optimierung der Strukturen im Vordergrund dieser Arbeit. Zur Optimierung der nanoskaligen Strukturen wurde ein Doppelbelichtungsverfahren nach O