Theoretische und experimentelle Untersuchung zur Wellenfrontanalyse im Lithographieprozess
Theoretical and experimental investigations of the wavefront analysis for lithographic applications
- Die theoretische und praktische Untersuchung zur Wellenfronanalyse im Lithographiprozess. Es wurde ein Aberrationsmessverfahren bezüglich technischen Gegebenheiten der Belichtungsanlage analysiert und modifiziert. Anhand dieser Analyse und Modifikation wurde ein entsprechendes Messverfahren ausgearbeitet und analytisch ausgewertet.
| Author: | Alexander Kabardiadi |
|---|---|
| Advisor: | Peter HartmannORCiDGND, Tobias Baselt |
| Document Type: | Bachelor Thesis |
| Language: | German |
| Name: | LIAN Optische Technologie Peter-Breuer-Straße 2, Kornmarkt 5, Domhof 4, 08056 Zwickau |
| Date of Publication (online): | 2018/02/22 |
| Year of first Publication: | 2013 |
| Publishing Institution: | Westsächsische Hochschule Zwickau |
| Date of final exam: | 2013/08/02 |
| Tag: | Lithographie-Belichtungsanlage; Wellenfron; optisches Messystem |
| GND Keyword: | Wellenfront; Messsystem; Lithographie |
| Page Number: | 38 Seiten, 35 Abb., - Tab., 21 Lit. |
| Faculty: | Westsächsische Hochschule Zwickau / Physikalische Technik, Informatik |
| Release Date: | 2018/02/22 |
